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日本Filgen紫外臭氧有機溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨使用超聲波清洗無法去除的基材上的有機污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。（累計率將大幅提升。） ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設(shè)備。

日本進口filgen等離子鍍膜機EVO涂層多功能 OPC60A 這是一種以SEM樣品為主的導(dǎo)電性薄膜的制造裝置，采用“利用直流輝光放電的負輝光相區(qū)域的等離子膜制造方法”。

日本Filgen等離子鍍膜機用于導(dǎo)電性薄膜裝置 OPC60A/OPC80T 電子顯微鏡試樣用導(dǎo)電性薄膜制作裝置等離子體涂布機 ◆膜專用型（OPC60A） ◆膜/等離子體聚合膜雙用型（OPC80T） ◆導(dǎo)電性超薄膜制膜機構(gòu) ◆親水化處理機構(gòu) ◆深型試樣機構(gòu) ◆可選消耗品

日本DIC酸、堿、有機溶劑等液體脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組?？蛇M行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣

日本DIC用于半導(dǎo)體/化學(xué)制劑等脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組。可進行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 兼容晶圓、石英、玻璃、藍寶石、SiC等多種材質(zhì)。 結(jié)合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學(xué)溶液等，可應(yīng)對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

Engis臺式和固定式研磨設(shè)備超精密研磨加工 EJ-380IN-CH / EJW-400IF 臺式和固定式研磨設(shè)備設(shè)計為的設(shè)備尺寸，用于構(gòu)建從實驗室規(guī)模到生產(chǎn)規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。采用特別適合金剛石研磨的高剛性機身和開發(fā)的水冷主軸，使研磨機的表面溫度始終保持恒定，實現(xiàn)高旋轉(zhuǎn)精度、振動小。

MTI雙軸高能旋轉(zhuǎn)振動球磨機研磨成納米級 MSK-SFM-3-II MSK-SFM-3-II 是一款雙軸高能球磨機，具有 3D 運動，可同時將兩種粉末研磨成納米級。 它具有由三維運動產(chǎn)生的更高沖擊力，例如旋轉(zhuǎn)、振動和振蕩，頻率高達 1000 RPM。 24VDC 電機內(nèi)置獨立可編程控制單元，可 在氬氣手套箱內(nèi)操作。