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日本MIKASA小型高性能旋涂機(jī)涂布機(jī)潔凈室用 MS-B100 / MS-B150 產(chǎn)品采用AC伺服電機(jī)且無(wú)刷，因此在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅埽⑶覝p少電機(jī)的發(fā)熱以防止連續(xù)使用時(shí)的溫度升高。膜厚再現(xiàn)性也較低。

日本Hisol等離子清洗機(jī)去除有機(jī)污染物等 G1000 G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用， 在低壓環(huán)境下對(duì)被清洗物體表面進(jìn)行清洗的系統(tǒng)。通過(guò)根據(jù)用途選擇所使用的氣體， 不僅可以可靠地去除有機(jī)污染物，還可以可靠地去除無(wú)機(jī)污染物。

日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 該臺(tái)式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對(duì)非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時(shí)。

kelk凱爾克電子冷卻除濕器環(huán)境污染分析裝置 DH-209C-1-R 電子冷卻除濕器對(duì)于去除環(huán)境污染氣體分析儀樣氣采樣部分或保持恒定量的水分至關(guān)重要。

凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R 濕法工藝的直接循環(huán)化學(xué)恒溫裝置，具有在線冷卻和加熱裝置，不會(huì)造成金屬離子洗脫和污染。

日本Junkosha脫氣模組高性能分析高純度流體 MBS-C-1000$n$n在分析化學(xué)領(lǐng)域，對(duì)提高準(zhǔn)確性的需求不斷增加。$n使用復(fù)雜的分析設(shè)備分析高純度流體需要使用高性能的脫氣模塊除去溶解的氣體。$n這是一種高性能且緊湊的脫氣模塊。

Adwill-Global全自動(dòng)多功能晶圓貼合研磨機(jī) RAD-2510F/12Sa 適用于超薄晶圓 本多功能晶圓貼合機(jī)采用單機(jī)系統(tǒng)，適用于超薄晶圓制造。背面研磨工藝完成后，晶圓的紫外線照射、校準(zhǔn)、貼合到切割環(huán)、研磨用表面保護(hù)膠帶撕膜均可以由1臺(tái)設(shè)備完成。